シリコンに導入されたドーパントの物理
通常価格 5,500 円(税込)
通常価格 セール価格 5,500 円(税込)
SALE 売り切れ
ネットストア在庫 詳細
    読み込み中...
My店舗在庫

    ほかの店舗在庫を見る

    ログインするとMy店舗登録で店頭在庫と
    店舗お受け取り可否が確認できます。

    新規会員登録
    ログイン ※パスワードお忘れの方はこちら
    商品説明
    本書は、半導体デバイスにおいて最も重要な技術の一つである不純物ドーピングにおける基本的な課題や学術的疑問点を取り上げ、それらを物理的な観点から理解を深めることを目的としています。シリコンナノエレクトロニクスおよびシリコンパワー半導体技術の両方に対して、ドーピングに伴って起こるさまざまな現象の物理的理解に関する議論と、さらにその理解に基づいて課題をどのように克服するかという技術展開を詳述しています。
    目次
    第1部 ドーピングの基礎
    第1章 シリコン中の1×10^10から1×10^20cm^−3にわたる濃度範囲のドーパント不純物のフォトルミネッセンス評価
    第2章 シリコン基板中のドーパントとその制御
    第3章 シリコン中の不純物原子の活性化とそのからくり
    第4章 ドーパントによる電子準位とドーパント拡散のミクロな機構:計算科学によるアプローチ
    第5章 放射光を用いた光電子ホログラフィーによるシリコン中の高濃度ドーパントクラスターの3次元原子配列構造解析

    第2部 ナノシリコンデバイス
    第6章 シリコンデバイスへのドーピング技術の事共
    第7章 シリコンナノ結晶への不純物ドーピング
    第8章 IV族半導体ナノワイヤへの不純物ドーピングと評価
    第9章 シリコンへの高濃度ドーピングにおける活性化と不活性化

    第3部 パワー半導体
    第10章 パワー半導体とドーピング技術
    第11章 パワー半導体用シリコンウェーハにむけた中性子核変換ドーピングの現状と今後の展開
    第12章 パワー半導体における宇宙線照射による故障のTCADを用いた解析
    第13章 300mmSi-IGBT時代へ向けた不純物ドーピング制御の物理的課題と技術的挑戦
    詳細を表示する

    カスタマーレビュー

    honto本の通販ストアのレビュー(0件)

    並び順:
    1/1ページ

    最近チェックした商品

    丸善ジュンク堂書店 公式YouTubeチャンネル

    【今できる!】人間関係の悩みを消す!一瞬で好かれる魔法の言い換えフレーズ|『知らない間に嫌われる言葉、話すたびに好かれる言葉』著者つみきち

    動画に関連する商品より

    【5万部突破】無意識に嫌われてない?人を激怒させる「悪気のない一言」とは?|『知らない間に嫌われる言葉、話すたびに好かれる言葉』著者つみきち

    動画に関連する商品より

    真夜中の本屋で語る田辺青蛙の「大阪怪談」|ミッドナイトジュンクラブ

    動画に関連する商品より
    御堂筋線怪談
    御堂筋線怪談